เครื่องเคลือบชุดระเหย

หลักการพื้นฐานของการเคลือบ PVD คือการระเหยหรือพ่นวัสดุเป้าหมายที่เป็นของแข็งโดยใช้วิธีการทางกายภาพในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ จากนั้นจึงฝากอะตอมหรือไอออนที่ระเหยไว้บนพื้นผิวของสารตั้งต้นเพื่อสร้างฟิล์มบาง ๆ โดยการให้ความร้อนหรือการระดมยิง วัสดุต้นทาง (โดยปกติจะเป็นโลหะหรือโลหะผสม) จะถูกแปลงเป็นอะตอมหรือโมเลกุลของก๊าซ ซึ่งสามารถทำได้ด้วยวิธีการต่างๆ เช่น การให้ความร้อนด้วยความต้านทาน การให้ความร้อนด้วยลำแสงอิเล็กตรอน หรือการทิ้งระเบิดด้วยพลาสมา โดยที่อะตอมหรือโมเลกุลที่ถูกระเหยหรือสปัตเตอร์เคลื่อนที่ในเฟสไอภายในห้องสุญญากาศ สภาพแวดล้อมสุญญากาศลดการชนกันของโมเลกุลก๊าซ ช่วยให้อะตอมหรือโมเลกุลเคลื่อนที่ได้อย่างอิสระและไปถึงพื้นผิวของสารตั้งต้น เทคโนโลยีการเคลือบ PVD มีคุณลักษณะที่ปราศจากมลภาวะ ประหยัดพลังงาน และมีประสิทธิภาพสูง และมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในสาขาต่างๆ เช่น ยานยนต์ การบินและอวกาศ อิเล็กทรอนิกส์ และทัศนศาสตร์ ด้วยการเลือกใช้วัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกัน เช่น โลหะ โลหะผสม เซรามิก ฯลฯ การเคลือบที่มีคุณสมบัติด้านประสิทธิภาพที่แตกต่างกันจึงสามารถตอบโจทย์ความต้องการในการใช้งานที่หลากหลายได้