เครื่องเคลือบสูญญากาศ 3D Series

หลักการของเครื่องเคลือบซีรีส์ PVD 3D นั้นใช้เทคโนโลยีการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) เป็นหลัก ซึ่งเป็นเทคโนโลยีที่ใช้วิธีการทางกายภาพในการแปลงวัสดุแข็ง (เป้าหมาย) ให้เป็นอะตอมของก๊าซ โมเลกุล หรือไอออนในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ และสะสมพวกมันไว้ บนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์จนเกิดเป็นฟิล์มบางๆ เทคโนโลยี PVD ประกอบด้วยกระบวนการหลักสองกระบวนการ ได้แก่ การระเหยและการสปัตเตอร์ ซึ่งทั้งสองกระบวนการดำเนินการในสภาพแวดล้อมสุญญากาศสูง เพื่อให้มั่นใจในความบริสุทธิ์และการยึดเกาะของฟิล์ม กระบวนการระเหย: วัสดุที่เป็นของแข็งจะถูกให้ความร้อนโดยแหล่งความร้อนเพื่อซับไลม์ให้เป็นสถานะก๊าซ จากนั้นจึงสะสมไว้บนพื้นผิวของสารตั้งต้นในห้องสุญญากาศเพื่อสร้างฟิล์มบางๆ วิธีนี้สามารถใช้ลำแสงอิเล็กตรอนหรือการให้ความร้อนด้วยความต้านทานเพื่อให้ความร้อนกับวัสดุเป้าหมายจนกระทั่งระเหยออกไป และอะตอมหรือโมเลกุลที่ระเหยไปจะสะสมอยู่บนพื้นผิวในสุญญากาศ กระบวนการสปัตเตอร์: วัสดุที่เป็นของแข็งจะถูกสปัตเตอร์จากพื้นผิวของวัสดุเป้าหมายด้วยความช่วยเหลือของการทิ้งระเบิดไอออนหรือก๊าซเฉื่อย จากนั้นจึงสะสมไว้บนพื้นผิวของวัสดุเป้าหมาย การเคลือบสปัตเตอร์ริ่งเป็นกระบวนการในการสะสมวัสดุที่เป็นของแข็งลงบนพื้นผิวของสารตั้งต้นโดยใช้การทิ้งไอออนในสภาพแวดล้อมสุญญากาศเพื่อสร้างฟิล์มบาง ๆ